Грунтовка акриловая, полимерная Юнис Для внутренних работ 10л

Готовый к применению акриловый полимерный грунт для внутренних работ.
Для выравнивания и снижения водопоглощения поверхности, а также для её технологического обеспыливания. Способствует увеличению прочности сцепления между основанием и последующим к нанесению материалом. В качестве последующих к нанесению материалов могут быть использованы гипсовые и цементные растворы.

•  Для нормально впитывающих прочных оснований;
•  Содержит антисептик;
•  Увеличивает прочность сцепления с поверхностью ;
•  Снижает водопоглощение поверхности;
•  Повышает качество и долговечность отделки;
•  Сокращает расход лакокрасочных материалов.

 Основание

Бетонные, цементно-песчаные (штукатурка, шпатлёвка), гипсовые (штукатурка, шпатлёвка, ГКЛ, ГВЛ, ПГП и т.п.) поверхности, полимерные шпатлёвки, древесностружечные и древесноволокнистые плиты.

СВОЙСТВА

• Назначение: под шпатлевание под обои и покраску
• Область применения: внутренние работы, отапливаемые помещения
• Тип основания: нормально впитывающие прочные

ХАРАКТЕРИСТИКИ

• Температура выполнения работ, °С от +5 до +30
• Расход состава, мл/м² 100
• Время до нанесения следующего слоя, не менее, мин 30
• Время высыхания для дальнейшей отделки, ч 3
• Площадь нанесения, до, м² 100
• Морозостойкость при транспортировке (до -40 °С), не более, цикл 5

ВЫПОЛНЕНИЕ РАБОТЫ

•  Выбор грунта и количество его слоев зависят от вида поверхности и от ее впитывающей способности.
•  Перед нанесением материала на сухое основание, необходимо удалить с поверхности осыпающиеся элементы, малярные покрытия, масляные, битумные пятна и другие загрязнения, препятствующие сцеплению материала с основанием.
•  Нанесение любых составов допускается только после полного высыхания слоя грунта.
•  Во избежание перегрунтования поверхности грунт необходимо наносить тонкими слоями с промежуточной сушкой каждого слоя. Рекомендуется проверять впитывающую способность поверхности после каждого слоя грунта.
•  Не допускается запыление загрунтованной поверхности.